離子鍍膜機(jī)與蒸發(fā)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)相比，比較大的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進(jìn)行沉積。鍍膜生產(chǎn)過程中對鍍膜層厚度均勻性檢測至關(guān)重要，真空鍍膜可以通過透光率和光密度的光學(xué)性能，來檢測鍍膜層厚度的均勻性，目前林上科技真空鍍膜在線測厚儀LS152可以用來連續(xù)監(jiān)控鍍膜在線生產(chǎn)的鍍膜品質(zhì)。

離子鍍膜機(jī)的荷能離子轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應(yīng)，主要有以下幾點：?

1：由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達(dá)基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且，被電離的膜材離子，還會在電廠的作用下沉積在具有負(fù)電壓基體表面的任意位置上。這一點蒸發(fā)鍍是無法達(dá)到的。

2：膜/基結(jié)合力強(qiáng)，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用，使基體受到清洗，激活及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強(qiáng)擴(kuò)散效應(yīng)。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。

3：鍍層質(zhì)量高，由于離子轟擊可提高膜的致密度，改善膜的組織結(jié)構(gòu)，使得膜層的均勻度好，鍍層組織致密，針孔和氣泡少。

4：沉積速率高，成膜速度快，可制備30μm的厚膜。

5：鍍膜所適用的基體材料與膜層材料均比較廣泛。適用于在金屬或非金屬表面上鍍制金屬、化合物、非金屬材料的膜層。

離子鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍非常廣泛。利用離子鍍技術(shù)可以子在金屬、合金、導(dǎo)電材料甚至非導(dǎo)電材料基體上進(jìn)行鍍膜。離子鍍沉積的膜層可以是金屬膜、多元合金膜、化合物膜；既可鍍單一鍍層，也可鍍復(fù)合膜層；還可以鍍梯度鍍層和納米多層鍍層。離子鍍技術(shù)和離子鍍的鍍層產(chǎn)品已得到非常廣泛的應(yīng)用。生產(chǎn)過程中用真空鍍膜在線測厚儀對鍍層厚度進(jìn)行監(jiān)測是非常有必要的。