UV能量測(cè)試儀主要用于曝光機(jī)內(nèi)UV光源的強(qiáng)度和能量檢測(cè)，而曝光機(jī)主要功能是通過紫外線的照射使得光刻膠中的感光劑發(fā)生化學(xué)變化。通過儀器的檢測(cè)，我們可以控制曝光時(shí)間以及紫外燈的強(qiáng)度以達(dá)到合適的光刻膠曝光效果。

曝光機(jī)的工作原理

曝光機(jī)主要運(yùn)用在半導(dǎo)體器件制造工藝中的光刻流程中。光刻主要是利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。

曝光機(jī)內(nèi)有很多UV LED光源，這些LED光源并列分布，曝光機(jī)可以通過這些具有特定波長(zhǎng)的UV LED發(fā)出的光對(duì)覆蓋襯底的光刻膠進(jìn)行選擇性地照射，使得光刻膠中的感光劑發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)后的區(qū)域可以溶解于特定的顯影液中。利用感光與非感光光刻膠對(duì)堿性顯影液溶劑的不同溶解度，就可以進(jìn)行掩膜圖形的轉(zhuǎn)移。

曝光不足或者曝光過度的后果

利用UV能量測(cè)試儀正確地控制曝光時(shí)間才能夠得到優(yōu)良的干膜抗蝕圖像。

當(dāng)曝光不足時(shí)，由于感光劑中化學(xué)反應(yīng)的不徹底，在顯影過程中，膠膜會(huì)溶漲變軟，線條不夠清晰，色澤暗淡，甚至脫膠。在電鍍前處理或電鍍過程中，膜會(huì)發(fā)生起翹、滲鍍、甚至脫落的現(xiàn)象。當(dāng)曝光過度時(shí)，會(huì)造成難于顯影，膠膜發(fā)脆、留下殘膠等弊病。

曝光不足或者曝光過度都會(huì)產(chǎn)生圖像線寬的偏差，過度的曝光會(huì)使圖形電鍍的線條變細(xì)，使印制蝕刻的線條變粗，而曝光不足使圖形電鍍的線條變粗，使印制蝕刻的線條變細(xì)。因此曝光機(jī)的曝光時(shí)長(zhǎng)以及光照強(qiáng)度都需要進(jìn)行嚴(yán)格的監(jiān)控。

林上LS128UV能量測(cè)試儀，是一款專業(yè)用于檢測(cè)曝光機(jī)內(nèi)UV LED光源的設(shè)備。儀器可以記錄接收到的紫外光的強(qiáng)度和能量值，將儀器放置在需要進(jìn)行曝光的光刻膠的位置上，儀器可以實(shí)時(shí)記錄光刻膠在曝光機(jī)內(nèi)接收到的紫外線強(qiáng)度大小以及累積的能量值，通過控制曝光機(jī)內(nèi)UV LED的強(qiáng)度和曝光時(shí)間來達(dá)到正常曝光。