光學(xué)真空鍍薄膜技術(shù)是一項集光學(xué)、電子、材料、真空、鍍膜等多個行業(yè)于一體的綜合性現(xiàn)代高新技術(shù)。光學(xué)性真空鍍膜產(chǎn)品應(yīng)用越來越廣泛，比如真空鍍鋁膜是最經(jīng)常見的。

真空鍍光學(xué)薄膜對于鍍層厚度要求技術(shù)較高，鍍膜過程中的厚度均勻性，決定了光學(xué)薄膜的光學(xué)性能。目前國內(nèi)市場上有光學(xué)真空鍍膜在線檢測設(shè)備（運用光學(xué)透光率值來監(jiān)測光學(xué)薄膜的鍍層厚度，也就是真空鍍膜在線測厚儀）；利用真空鍍膜技術(shù)制備的各類光學(xué)薄膜已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、材料、信息、通信、生物、醫(yī)學(xué)、環(huán)保、節(jié)能等國民經(jīng)濟的各個領(lǐng)域，其作用越顯重要。

廣東省的光學(xué)薄膜領(lǐng)域經(jīng)過三十多年的發(fā)展，從無到有，不僅已經(jīng)形成了各種光學(xué)鏡頭鍍膜、光學(xué)濾光片、激光薄膜、紅外薄膜、眼鏡鍍膜、燈光照明鍍膜、幕墻玻璃鍍膜、透明導(dǎo)電膜、汽車鍍膜等產(chǎn)品組成的龐大光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)群，最近十多年，更出現(xiàn)了應(yīng)用于平板電視面板、手機面板、平板電腦面板、數(shù)碼相機鏡頭、光纖通信有源及無源器件、平板顯示器、觸摸屏等的薄膜器件以及太陽能薄膜、LED的MOCVD鍍膜等的光電功能薄膜等應(yīng)用于信息、通信、能源等領(lǐng)域的更龐大、更先進的新興光學(xué)薄膜產(chǎn)業(yè)。

基于光學(xué)鍍膜技術(shù)，采用大角度傾斜沉積（Glancing Angle Deposition, GLAD）配合基片旋轉(zhuǎn)，可以制備出具有形貌可控的微納尺度的雕塑薄膜(Sculpture Thin Films, STF)，展現(xiàn)了微納器件的雛形。典型的雕塑薄膜形貌有絲狀、斜柱狀、螺旋狀和zig-zag狀等，由于雕塑薄膜多樣可控的形貌特征和多孔的結(jié)構(gòu)特征，使得其相對于傳統(tǒng)的光學(xué)薄膜具有更多新穎的光學(xué)特性，包括斜柱狀薄膜的雙折射特性、螺旋狀（手性）薄膜的光特性和圓布拉格特性、低折射率特性等，因此在光通信器件、LED等光學(xué)器件、三維光子晶體制備等方面都將有廣泛的應(yīng)用前景。

但是目前光學(xué)真空鍍膜設(shè)備，對生產(chǎn)過程中鍍層厚度的均勻性較難掌控，總希望鍍層厚度在光學(xué)薄膜上分布的越均勻越好，當(dāng)薄膜上沉積的金屬量相同時，如果厚度分布的不均勻，則會帶來很多壞處的，光學(xué)性能不穩(wěn)定。導(dǎo)致光學(xué)真空鍍膜產(chǎn)品品質(zhì)不高，實際作用自然就降低很多。

無論是從防蝕性，還是外觀、計加工性能等方面講，都希望提高鍍層厚度的均勻性，考慮到這一行業(yè)要求，林上光學(xué)儀器制造商根據(jù)光學(xué)透光率原理研發(fā)生產(chǎn)出一款真空鍍膜在線測厚儀，臺灣人喜歡稱為光密度在線檢測儀。透光率與光密度其實是同一光學(xué)參數(shù)，只是不同的叫法，之前存在固定的關(guān)系。